目前全球只有一家厂商，能够制造出EUV光刻机，它就是荷兰的ASML。
但大家不知道的是，其实EUV光刻机的研发，是英特尔带着美国的实验室、科研机构研发出来的，但英特尔研发出来后，自己不想造，觉得不如造芯片赚钱，就扔给ASML。
ASML拿到这套方案后，再整合供应链，最终把成品造了出来。
事情要从20世纪90年代说起，当时的光刻机已经实现了193nm的浸润式光刻机了，采用193nm光源，通过水的折射后，等效134nm，这种光刻机最多能制造7nm芯片。
但芯片还要微缩，接下来怎么办？减少光源的波长，是必须的，那么下一步采用什么光源呢？科学家们想了很多办法，最后大家达成了共识，应该使用波长为13.5纳米的极紫外光。
但是觉得要使用13.5nm波长的极紫外线，到能使用这种紫外线来制造光刻机，中间还有很长的路要走，怎么来实现？
于是在1996年，当时全球最牛的芯片制造厂商英特尔，出面了，它联合了美国的几家芯片厂和几个国家实验室成立了一个联盟，全力开发光刻技术。
当时英特尔很赚钱，所以拿出了数十亿美元参与其中，花了大约4年时间，从理论研究，到论证，基本上都跑通了一遍，大致知道极紫外光刻机应该怎么实现。
接下来应该要真正投入制造了，但英特尔自己不想干，觉得这玩意太复杂了，不如自己造芯片赚钱快，毕竟当时全球的芯片以CPU为主，都是英特尔的天下。
当时全球能够帮英特尔制造EUV光刻机的，有三家，分别是荷兰的ASML，日本的佳能和尼康。
但当时美国刚打废了日本的半导体产业，英特尔当然也不愿意日本制造EUV光刻机，而欧盟当时和美国非常好，美国对欧盟不设防，于是将这一技术方案给了ASML。
当然不是白给的，英特尔还入股了ASML，另外还叫上台积电、三星也入股ASML，因为intel知道造EUV光刻机需要钱，需要大把的钱。
当然英特尔也提了要求，一是ASML必须把几个关键部件留在美国生产，二是ASML制造出EUV光刻机后，优先卖给intel、台积电、三星三家。
ASML拿到方案后，其实也过了10来年，才真正完成了从方案到实际的产业链，造出了EUV光刻机，而ASML也是信守承诺，优先卖给intel、台积电、三星这三家。
同时ASML的一些关键技术，也掌握在美国手中，当然ASML另外也扶持了蔡司等核心供应链，形成捆绑关系。
所以直到现在，全球也就只有ASML一家能够生产EUV光刻机，同时ASML也要听美国的话，因为背后的故事有点多，这技术背后有美国的功劳。
